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影响门牌石抛光的主要因素

文章出处:http://www.huachengstone.cn 人气:112发表时间:2022-04-18
  

就抛光工艺而言,影响门牌石抛光的主要因素具体分为以下几点。

1、抛光剂的种类

抛光剂虽然是一种特殊的抛光材料,但它与研磨材料的区别主要在于加工机理。原则上,有一些低硬度的微粉材料也可以用作抛光剂。但通常高硬度抛光剂优于低硬度抛光剂,应用范围广泛。

2、抛光液(膏)

水是一种常用的抛光液。它不仅可以起到研磨和冷却的作用,还可以作为抛光过程中物理和化学作用的介质;如果门牌石的抛光以机械研磨为主,如采用金刚石粉,则抛光液一般采用油基有机液体,其冷却、润滑和分散性能极佳;也可以添加金刚石浆料,包括水和油,以及着色剂。其公式为:磨料+分散剂+载体+水+着色剂。

3、抛光盘

平面门牌石光面面板是门牌石平面磨削的表现形式,大部分采用金属材料制成的硬盘作为抛光盘使用。软盘抛光的抛光面适用于曲面抛光。中硬盘耐磨性好,吸附性好,有一定的弹性,对平面的门牌石抛光效果也比较好。

4、抛光工艺参数

工艺参数包括抛光剂的浓度和供给、抛光时的压力和线速度等。在浓度低于一定浓度之前,抛光速度随着抛光剂浓度的增加而增加。浓度达到最大值后,如果增加浓度,抛光速度反而会降低。类似地,当抛光剂的供给量为一定值时,抛光速度最大,之后如果继续增加供给量,则抛光速度反而降低。抛光时适当加大压力,可以提高抛光速度,但压力过大,研磨效果加强,不利于光泽面的形成。抛光速度取决于抛光盘的旋转速度,但如果线速度过大,抛光剂会被甩出,造成浪费。

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